首页 期刊 低温与超导 用于超导平面微波电路的悬空桥制备工艺研究 【正文】

用于超导平面微波电路的悬空桥制备工艺研究

作者:赵凡; 许伟伟; 耿海峰; 郁梅; 花涛; 卢亚鹏; 曹春海; 陈健; 吴培亨 南京大学超导电子研究所; 南京210093
悬空桥   磁控溅射   反应离子刻蚀   光刻  

摘要:在超导微波电路芯片中,通常存在影响信号传输和控制的杂散信号,利用超导悬空桥连接电路不同接地平面,可有效抑制微波线路中的寄生杂散模式。利用光刻胶作为支撑层,采用直流磁控溅射、反应离子刻蚀(RIE)、深紫外曝光光刻等微加工方法,制备了连接复杂微波电路不同接地平面的悬空桥结构,并给出了制备工艺流程及悬空桥结构的低温超导特性表征。试验结果表明,该悬空桥制备工艺可用于目前比较复杂的超导平面微波电路制备。

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