摘要：根据真空开关对CuWAlTe触头的性能要求,采用特有的熔渗技术,成功解决碲的挥发引起的碲含量低问题,达到性能要求,并通过型式试验。本文阐述了技术难点,对多种工艺方案进行了详细论证。
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