首页 期刊 电镀与涂饰 电沉积铂研究Ⅰ——工艺条件与镀层性能 【正文】

电沉积铂研究Ⅰ——工艺条件与镀层性能

作者:崔启明; 潘惟期; 王金城; 郁祖湛 中国上海测试中心; 上海; 200233; 无锡分离应用技术研究所; 无锡; 214028; 复旦大学; 上海; 200433
电沉积   镀层性能   工艺条件   x射线晶体衍射   电流密度  

摘要:研制了2种新的电沉积铂镀液体系:新槽液Ⅰ号和Ⅱ号.通过实验研究了电流密度、温度和主盐含量对镀液电流效率的影响,并与常用的碱性P盐槽液、酸性P盐槽液和DNS槽液进行对比.结果发现:新槽液Ⅰ号在电流密度为2 A/dm2、工作温度为30~40 ℃以及主盐含量为4~10 g/L时,电流效率较高,从而可以在较低的温度下实现光亮镀铂.分散能力实验表明,新槽液Ⅰ号具有良好的分散能力.扫描电镜(SEM)图和X射线晶体衍射(XRD)图也证明,与传统的可获得色泽最白、性能最优的镀层的DNS槽液相比,新槽液Ⅰ号获得的镀层对晶面的择优程度与DNS槽液相近,但其内应力更小、表面更平整、结晶更细致、厚度更大.

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