摘要：旋转圆盘电极动电位扫描(RRDE)、交流阻抗(EIS)、原子力显微镜(AFM)等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因.结果表明,加入的氯离子改变了吸附络合物的放电形式,表现在氯离子通过离子桥机理形成三维网状结构的[Cl…AQCu(I)…Cl]放电以阻碍整个放电过程,增加反应电阻,从而使镀层表现出很好的性能.

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