摘要：采用正交实验的方法对碱各向异性腐蚀制备单晶硅绒面进行了优化，制备的硅片样品绒面反射率为11．07％．在表面沉积减反射膜（ARC）后的平均反射率为2．56％。制绒液中NaOH的质量分数为1～3％时，制备的单晶硅绒面反射率较低．Na2SiO3的存在为反应提供了更多的起始点，所制作的绒面排列更为紧密．但Na2SiO3的浓度过高会阻碍反应进行，得不到理想的绒面．IPA可以加速反应产生的氢气泡从硅片表面逃逸，减弱NaOH的腐蚀强度，获得良好的各向异性因子．随着制绒反应时间延长，硅片表面的金字塔长大，反射率降低，这个过程是“金字塔”不断长大和被削平的过程．常温下难以制得绒面，要在减少醇挥发的情况下尽量提高反应温度．

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