首页 期刊 材料开发与应用 极化电位对高锰铝青铜表面钙质沉积层的影响研究 【正文】

极化电位对高锰铝青铜表面钙质沉积层的影响研究

作者:孙天翔; 黄国胜; 吕平; 许立坤 青岛理工大学; 山东青岛266033; 中国船舶重工集团公司第七二五研究所海洋腐蚀与防护重点实验室; 山东青岛266101
高锰铝青铜   钙质沉积层   极化电位   阴极极化  

摘要:采用恒电位极化和电化学阻抗谱(EIS)技术研究了青岛天然海水中不同极化电位下高锰铝青铜的保护电流密度和表面状态随时间的变化过程,利用扫描电镜(SEM)和能谱X射线(EDX)分析了阴极极化产物的微观形貌和元素组成。结果表明,极化168 h后,-0.8 V和-0.5 V两种极化电位下,高锰铝青铜表面都能够形成明显的钙质沉积层,主要成分都是CaCO3;-0.8 V的极化电位下,高锰铝青铜虽然表面形成了铁锰氧化物,但其稳定保护电流密度更低,钙质沉积层膜电阻和电荷转移电阻值更高,钙质沉积层结构也更加致密。因此,-0.8 V的极化电位比-0.5 V的极化电位对高锰铝青铜具有更高的阴极保护效率。

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