首页 期刊 材料开发与应用 电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制 【正文】

电弧气化法制备纳米ITO粉末及高密度ITO靶的研制

作者:张雪凤 潘震 王政红 邢朋飞 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 河南洛阳471039 广州广船国际股份有限公司军代表室 广东广州510000
电弧气化法   纳米   ito粉   ito靶  

摘要:以纯度为99.99%的纯金属In和Sn为原料,采用电弧气化法制备了单一立方In2O3结构的纳米ITO合金粉末,所制备的粉末以四方和类球形两种形貌存在,粒度主要位于30-70nm,分散性良好;并在此基础上采用常压烧结制备了相对密度高达99.74%,平均电阻率达到1.52×10^-4Ω·cm,结构成份均匀,晶粒尺寸5—10μm左右的超高密度ITO靶材。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅