摘要：ITO／MgF2复合薄膜既具有较好的表面导电性能又具有较高的透过率，可应用于空间太阳电池玻璃盖板表面。文章主要对ITO／MgF2复合薄膜中表层的超薄ITO薄膜进行了研究。利用TFcalc软件模拟了ITO薄膜厚度对ITO／MgF2复合薄膜光学性能的影响，根据模拟结果采用电子束蒸发法在衬底上依次沉积MgF2薄膜和氧化铟锡（ITO）薄膜，研究了ITO薄膜工艺参数（沉积速率、沉积温度和工作气压）和ITO薄膜厚度对ITO／MgF2复合薄膜光电性能及微观结构的影响。当ITO薄膜沉积速率为0．05m／s、沉积温度为400℃、工作气压为2．3×10^-2Pa、厚度为10nm时，表层ITO薄膜基本连续，其方块电阻（1．94kΩ／□）已符合设计需求，ITO／MgF2复合薄膜在可见光区间（400～800nm）的平均透过率达到89．00％。

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