半导体信息

半导体信息杂志 部级期刊

Semiconductor Information

杂志简介:《半导体信息》杂志经新闻出版总署批准,自1990年创刊,是一本综合性较强的电子期刊。该刊是一份双月刊,致力于发表电子领域的高质量原创研究成果、综述及快报。主要栏目:企业指南、国内外半导体技术与器件、市场动态

主管单位:中国半导体行业协会分立器件专业协会 信息产业部电子第五十五研究所
主办单位:中国半导体行业协会分立器件分会;中国电子科技集团公司第五十五研究所
创刊时间:1990
所属类别:电子类
发行周期:双月刊
发行地区:江苏
出版语言:中文
预计审稿时间:1个月内
综合影响因子:0.01
总发文量:1962
总被引量:115
H指数:3
  • 发改委:将在集成电路等领域组建若干国家产业创新中心

    刊期:2018年第01期

    日前,国家发改委就宏观经济运行情况举行新闻会,国家发改委政策研究室主任兼新闻发言人严鹏程在会上介绍,今年,发改委将在集成电路、先进计算、生物育种等关系数字经济、生物经济、绿色经济发展的战略性领域,组建若干国家产业创新中心,促进现有创新资源的联合,打造系统解决方案的产业创新大平台、大团队,支撑世界级新兴产业集群的发展。

  • 国家集成电路大基金二期启动加大对设计、模组等环节的投资

    刊期:2018年第01期

    国家集成电路产业投资基金二期募资已经启动,募集金额将超过一期,一期募集资金1387亿元,市场预计二期规模有望达到2000亿元。其中,中央财政直接出资200—300亿元,国开金融公司出资300亿元左右,中国烟草总公司出资200亿元左右,中国移动公司等央企出资200亿元左右,

  • 5G时代到来 中国5G芯片面临哪些挑战

    刊期:2018年第01期

    日前,5G技术研发试验第三阶段规范正式,这意味着我国5G技术研发又到了一个新的阶段。当下,我国正在大力开展5G技术与产业化的前沿布局,在5G芯片领域取得积极进展,技术产业化进程不断加快。

  • 5G提前一天内半导体两项重大宣布

    刊期:2018年第01期

    5G商用在即,早有部署的半导体巨头近期也正在忙着确定合作伙伴,短短一天内,多家巨头宣布重要消息,其中采用极紫外光设备的7nmLPPEUV制程将用于5G芯片制造,同时,安卓高端5G智能手机解决方案将于2019年实现与5G移动网络的部署同步推向市场。

  • Ampleon推出SOT502ISM频段小型射频功放晶体管可为射频能量应用提供600W功率

    刊期:2018年第01期

    安谱隆半导体(Ampleon)近日宣布,推出600W的BLF0910H9LS600LD—MOS功率放大器晶体管。这是第一款采用安谱隆最新Gen9HV50VLDMOS工艺的射频能量晶体管——该节点已为大幅提高效率、功率和增益做了优化。

  • 意法半导体与远创达签署LDMOS技术许可合作协议

    刊期:2018年第01期

    意法半导体(STMicroelectronics,简称ST)近日宣布与远创达科技公司签署一份LDMOS射频功率技术许可协议。远创达是一家总部位于中国苏州的无晶圆厂的半导体公司,专业设计制造射频功率半导体产品、模块和子系统集成。

  • 中芯国际砸百亿美元强攻14nm2019年量产

    刊期:2018年第01期

    中芯国际1月30日晚间公告,将联同国家集成电路基金及上海集成电路基金共同投资102.4亿美元,以加快14nm及以下先进制程研发和量产计划。

  • 氮化镓衬底晶片实现“中国造”

    刊期:2018年第01期

    苏州纳维依托中科院苏州纳米所而建。作为中国首家氮化镓衬底晶片供应商,团队从氮化镓单晶材料气相生长的设备开始研发,逐步研发成功1英寸、2英寸、4英寸、6英寸氮化镓单晶材料,实现了氮化镓单晶材料生长的n型掺杂、补偿掺杂,研制出高电导率的和半绝缘的氮化镓单晶。

  • 维易科(VEECO)和ALLOS展示行业领先的200MM硅基氮化镓性能推动micro-LED的应用

    刊期:2018年第01期

    Veeco公司和ALLOSSemiconductors(ALLOS)达成了一项战略举措,展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光microLED的生产。维易科和AL—LOS合作将其专有外延技术转移到Propel单晶圆MOCVD系统,从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。

  • IEMN结果显示ALLOS新型硅基氮化镓外延片产品具有超过1400V的击穿电压

    刊期:2018年第01期

    来自电子、微电子及纳米技术研究院(IEMN)的最新结果显示,ALLOS即将推出的适用于1200V器件的硅基氮化镓外延片产品具有超过1400V的纵向和横向击穿电压。

  • 美国国家航空航天局授予美国亚利桑那州立大学75万美元研发首个氮化镓处理器

    刊期:2018年第01期

    近日,美国国家航空航天局(NASA)“热工作温度技术”(HOTTech)项目授予美国亚利桑那州立大学电子和计算机工程专家YujiZhao一份为期三年、价值75万美元的合同,将开发首个基于氮化镓(GaN)的可工作于高温环境的微处理器,对未来空间探索任务带来变革。

  • MACOM和意法半导体将硅上氮化镓推入主流射频市场和应用

    刊期:2018年第01期

    意法半导体(STMicroelectronics,简称ST)和MACOM公司宣布一份硅上氮化镓GaN合作开发协议。据此协议,意法半导体为MACOM制造硅上氮化镓射频晶片。除扩大MACOM的货源外,该协议还授权意法半导体在手机、

  • Qorvo推出新型支持C-V2X的GaAs HBT PA

    刊期:2018年第01期

    实现互联世界的创新RF解决方案提供商Qorvo,Inc.近日宣布,Qorvo前端功率放大器(PA)将用于高通子公司QualcommTechnologies,Inc.的高通蜂窝车联网(C—V2X)参考设计。Qorvo新型GaAsHBTPA是唯一一款支持C—V2X的功率放大器,旨在增强行车安全意识,改进驾驶辅助功能。

  • 东芝低噪声射频放大器推出实现低噪声系数的SOI工艺

    刊期:2018年第01期

    东京一东芝电子元件及存储装置株式会社近日宣布研发出新一代Tar—fSOITM(东芝先进的RFSOI)工艺——“TaRF10”,该工艺经优化适用于智能手机应用中的低噪声放大器(LNA)。

  • 中车时代电气成功研制世界最大容量压接型IGBT

    刊期:2018年第01期

    近日,由中车时代电气完成的“3600A/4500V压接型IGBT及其关键技术”通过中国电子学会的鉴定,被认定为世界上功率等级最高的压接型IGBT。这一成果实现了国内压接型IGBT技术“从无到有”的跨越,打破了国外大功率压接型IGBT的技术和市场垄断。