首页 期刊 半导体技术 一种带有注入增强缓冲层的4H-SiC GTO晶闸管 【正文】

一种带有注入增强缓冲层的4H-SiC GTO晶闸管

作者:高吴昊; 陈万军; 刘超; 陶宏; 夏云; 谯彬; 施宜军; 邓小川; 李肇基; 张波 电子科技大学电子科学与工程学院; 成都610054
注入效率   缓冲层   脉冲功率  

摘要:门极可关断(GTO)晶闸管是应用在脉冲功率领域中的一种重要的功率器件。目前,由于常规SiC GTO晶闸管的阴极注入效率较低,限制了器件性能的提高。提出了一种带有注入增强缓冲层的碳化硅门极可关断(IEB-GTO)晶闸管结构,相比于常规GTO晶闸管结构,该结构有着更高的阴极注入效率,从而减小了器件的导通电阻和功耗。仿真结果表明,当导通电流为1 000 A/cm^2时,IEB-GTO晶闸管的比导通电阻比常规GTO晶闸管下降了约45.5%;在脉冲峰值电流为6 000 A、半周期为1 ms的宽脉冲放电过程中,器件的最大导通压降比常规GTO晶闸管降低了约58.5%。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社

学术咨询 免费咨询 杂志订阅