首页 期刊 半导体技术 超宽禁带半导体Ga2O3微电子学研究进展(续) 【正文】

超宽禁带半导体Ga2O3微电子学研究进展(续)

作者:赵正平 中国电子科技集团公司; 北京100846; 专用集成电路重点实验室; 石家庄050051
宽禁带半导体   击穿场强   掺杂浓度   纳米薄膜   mosfet  

摘要:4β-Ga2O3场效应晶体管β-Ga2O3具有有意掺杂的浅能级施主(Si,Ge和Sn)和深能级补偿受主掺杂(Mg和Fe),其n型掺杂可控制材料导电率变化范围达15个数量级以上,即从高导电性(电阻率约为10-3Ω·cm)到半绝缘性(电阻率约为1012Ω·cm)。然而,正如其他氧化物半导体一样,不太可能实现p型掺杂,由于目前尚未找到浅受主掺杂杂质,其空穴的输运受其价带结构的限制而导致空穴的有效质量非常大。

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