首页 期刊 半导体技术 HVPE生长的高质量GaN纳米柱的光学性能 【正文】

HVPE生长的高质量GaN纳米柱的光学性能

作者:陈琳; 王琦楠; 陈丁丁; 陶志阔; 修向前 南京邮电大学电子科学与工程学院; 南京210023; 南京大学电子科学与工程学院; 南京210023
氮化镓   纳米柱   光致荧光  

摘要:GaN纳米材料因具有优异的晶体质量和突出的光学性能及发射性能,日益受到关注。研究了一种利用氢化物气相外延(HVPE)系统生长高质量的Ga N纳米柱的方法。使用镍作为催化剂,在蓝宝石衬底上生长出了GaN纳米柱。在不同生长时间和不同HCl体积流量下制备了多组样品,使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)谱对样品进行了分析表征。测试结果表明,在较低的HCl体积流量下,生长2 min的样品具有较高的晶体质量和较好的光学性质。讨论了不同生长阶段的GaN纳米结构发光特性的变化规律,认为纳米结构所产生的表面态密度大小差异会造成带边峰位的红移和展宽。

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