摘要：在日前举行的台积电(TSMC)2005年技术研讨会上，该公司的高层透露，将为采用90纳米设计规则的工程师提供更多的可制造性设计(DFM)建议(recommendations)。台积电。DFM项目负责人JamesWang透露，此次新公布的6条指导建议基于台积电2004年的技术研讨会上所提出的建议，并延伸到了90纳米平台。这6条建议中，部分建议的细节在本次会议上获得批露。台积电称，其中“最重要的改变”是金属沉积(metaldepositionl，裸片的金属沉积必须要相对均衡一致，防止进行到化学机械抛光(chemical—mechanical polishing)步骤时出现凹陷和其它问题。

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